本專利技術通過設備裝置的功能性組合，解決現有廢水處理技術占地面積大，固定投資大的問題；具有適用性廣、費用低廉、安裝容易、維護簡單的特點；應用于工業企業產生的含有不溶性污染物的廢水處理。
本專利技術提供的碳化硅陶瓷分離膜孔徑及孔徑分布可以通過多孔氧化物陶瓷基體以及包含過渡膜層的基體的孔徑及孔徑分布進行調節；易于制得孔徑小于100nm的碳化硅陶瓷分離膜；通過將物理氣相沉積在基體上形成的碳化硅膜層放入真空或惰性氣氛進行熱處理，可避免碳化硅膜出現氧化，使得碳化硅膜層從無定型生長成為晶體，從而提高碳化硅膜層與基體的結合強度。在食品工業、水處理、生物技術、醫藥工業和醫療設備、環保和能源等領域中有著非常廣泛的應用。
本專利技術在氧化錫超濾膜預制體進行高溫煅燒時，氧化鋁過渡涂層和氧化錫膜層界面上的氧化鋁顆粒和氧化錫顆粒能充分發生反應，從而使氧化錫膜層和氧化鋁過渡層之間具有較高的結合強度，不會剝離；技術膜涂層質量高，均勻性好，不容易產生流掛現象；技術鍍膜液的利用效率高，可減少浪費和環境污染；可有效應用在食品工業、生物醫藥、環?；蚰茉搭I域的分離中。
