• 成果展示 | 碳化硅陶瓷分離及其制備方法

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    【專利信息

    專利名稱:碳化硅陶瓷分離及其制備方法

    專利號:201911079133.1

    行業分類:C 化學;冶金

    法律狀態:實審

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    【專利技術介紹

    本專利技術提供一種碳化硅陶瓷分離膜及其制備方法,碳化硅陶瓷分離膜中的碳化硅膜層與基體的結合力強,且碳化硅膜層的硬度高,分離膜包括多孔氧化物陶瓷基體及碳化硅膜,碳化硅膜設置在所述多孔氧化物陶瓷基體的表面,碳化硅膜為開口多孔結構,多孔氧化物陶瓷基體包括但不限于平板式多孔陶瓷、碟式多孔陶瓷、管狀多孔氧化物陶瓷、中空纖維狀氧化物陶瓷。

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    【專利技術優勢

    1. 本專利技術提供的碳化硅陶瓷分離膜孔徑及孔徑分布可以通過多孔氧化物陶瓷基體以及包含過渡膜層的基體的孔徑及孔徑分布進行調節;易于制得孔徑小于100nm的碳化硅陶瓷分離膜;

    2. 本發明通過將物理氣相沉積在基體上形成的碳化硅膜層放入真空或惰性氣氛進行熱處理,可避免碳化硅膜出現氧化,使得碳化硅膜層從無定型生長成為晶體,從而提高碳化硅膜層與基體的結合強度。

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    【應用場景及市場前景

    膜分離技術在食品工業、水處理、生物技術、醫藥工業和醫療設備、環保和能源等領域中有著非常廣泛的應用。

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    研發單位

    佛山市中國科學院上海硅酸鹽研究所陶瓷研發中心

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